半導體生產廢水處理設備工藝特點

半導體生產廢水處理設備概述：

針對半導體生產廢水，吉豐科技提供完整的廢水處理方案，廢水回用方案。系統通過膜生物反應器和三處理系統，對半導體廢水進行處理，使之達到新的嚴格的環境規定，實際在工廠內的再次利用，不僅能有效地節約有限的水資源，而且能減少污水的排放，具有良好的經濟效益。

半導體生產廢水主要來自車間的鍍槽、清洗水等，廢水中含有的主要污染物有：Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸堿等。半導體生產廢水排放量大，廢水污染物種類多，成份復雜，尤其是溶解固體和懸浮固體在含量、酸堿度和金屬雜質方面的差異，使半導體廢水回用對常規技術處理造成了挑戰。

本系統通過膜生物反應器和三處理系統，對半導體廢水進行處理，使之達到新的嚴格的環境規定，實際在工廠內的再次利用。本系統不僅能有效地節約有限的水資源，從而減輕對水資源的消耗，緩解日趨突出的用水緊張矛盾，而且能減少污水的排放，減輕對周圍水體的污染，改善人類居住環境。廢水回收成本可降至每噸約。回收水可供應純水系統或直接回用到生產線，具有良好的經濟效益，1～3年內可回收初設成本。



二、工藝特點

1、三低一零

本系統淤泥產出量低、臭氣產出量低、能量需求量低，化學品需要量zui小或為零。

2、資源利用

經本系統處理后的回用水，滿足嚴格的工廠回用水品質要求，可供應純水系統或直接回用到生產線。

3、性價比高

本系統操作便捷，抗沖擊負荷，占地緊湊，穩定性高，運轉成本低，經過大量成功案例驗證。

三、工藝流程